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A.SiO2可用于制造光导纤维而不能直接作芯片
B.SiO2既能溶于氢氟酸、也能溶于氢氧化钠,是两性氧化物
C.普通玻璃是由SiO2、石灰石和纯碱制成的,其熔点很高
(3)硅单质可作为硅半导体材料。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程如图:
①该生产过程中可以循环使用的物质是___________。
②整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和一种气体单质,写出发生反应的化学方程式___________。
(4)新型陶瓷材料氮化硅(Si3N4)可应用于原子反应堆,一种制备氮化硅的反应如下:
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